(375,48 zł szt)
Retix C Ultra Repair Nano-Mask to maska profesjonalna do pielęgnacji pozabiegowej. Dzięki wykorzystaniu technologii nanowłókien tworzących trójwymiarową strukturę biocelulozy zapewnia bardzo wysoką absorbcję i aktywne uwalnianie trzech form kwasu hialuronowego oraz ektoiny – EctoHyal Complex 3.0. Bioceluloza jako materiał wykorzystywany w kosmetologii i medycynie do regeneracji, idealnie przylega do obszaru zabiegowego tworząc efekt drugiej skóry.
Składniki aktywne maski koją, redukują zaczerwienienia i nieprzyjemne uczucie ściągnięcia.
Składniki aktywne:
BISABOLOL – składnik o bardzo silnych właściwościach przeciwzapalnych i łagodzących skórę. Przyspiesza proces gojenia, koi podrażnioną i wrażliwą skórę.
ECTOHYAL COMPLEX 3.0 to połączenie unikalnych właściwości ektoiny oraz trzech form kwasu hialuronowego dla optymalnego, wielopoziomowego nawilżenia i złagodzenia podrażnień skóry. Ektoina stanowi ochronę przed fotostarzeniem się skóry, ponadto wzmacnia funkcję bariery i wspiera funkcje naprawcze, jest składnikiem o udowodnionym działaniu przeciwstarzeniowym.
Wskazania:
Podrażnienie i zaczerwienienie skóry
Uczucie ściągnięcia i odwodnienia
Utrata elastyczności i napięcia skóry
